光刻机是什么?
光刻机
光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1、2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和日本Canon三大品牌为主。
位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
?光刻机是干嘛用的？
光刻机用途
光刻机是芯片制造的核心设备之一，作为目前世界上最复杂的精密设备之一，其实光刻机除了能用于生产芯片之外，还有用于封装的光刻机，或者是用于LED制造领域的投影光刻机。目前，我国高端的光刻机，基本上是从荷兰ASML进口的。
光刻机作为工业制造之花，已经是真正高科技的象征，这个设备非常精密，没有他芯片几乎是制造不出来的。简单来说，光刻机把获得的单一光源，通过把电脑上的芯片逻辑‘与或非’门级电路图的影像，不断的进行聚光，最后形成一个点，聚光到硅晶圆上，对硅片进行烧录，最后在硅片上形成和电脑上的逻辑电路影像一样的图案，这个图案的每个线路最小是在5纳米左右，这个图案就是硅晶圆的逻辑电路，多个硅晶圆叠加在一起，便可以形成芯片。只有光刻机发出的光，才可以在这么小的纳米级的范围内进行任意织出自己想要的电路图。所以有人说，光刻机是芯片之母，是工业之花。
光刻机是干嘛用的？
芯片是电子产品所必不可少的组件，芯片制造商要想成功地制造出芯片来，必须用到光刻机。对芯片制造商来说，光刻机就是核心的生产设备。
光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，制造光刻机更被比作是在微观世界里“造房子”——成像系统由几十个直径为200~300毫米的透镜组成，定位精度都是纳米级。微米级的瞬时传输控制技术，犹如两架空客以1000/小时公里同步高速运动，在瞬间对接穿针引线。
作为集成电路制造过程中最核心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提升工艺制程，没有它万万不行，中国半导体工艺为啥提升不上去，光刻机被禁售是一个主要因素。
中芯国际向荷兰ASML进口EUV光刻机意味着中国终于有能力进军7nm及以下的芯片制造工艺，换句话说，中芯国际已经有了和Intel、三星、台积电叫板的硬件实力。
当然，光刻机并非芯片制造的全部，配套的技术、人员的经验和整个生产线上的磨合也需要一定的时间。但是解决了最大的光刻机问题以后，这些对于中国人来说也只是时间的问题。
现在，国内企业将有先进的光刻机，在芯片制造方面可以大踏步的赶上世界一流水平。
但是，我们国内的光刻机水平与国际的先进水平差距还很大，要真正实现技术核心自主创新，还需要相关的设备创新再上新台阶。
